黄光制程是一种常用的半导体工艺，主要用于制作集成电路（IC）中的导线与连线层。它在电子制造行业有着广泛的应用，可以说是电子设备制造中非常关键的一步。

在黄光制程中，首先要在硅片上涂上一层光刻胶，然后用特殊的光学系统通过掩膜形成所需电路图案，并进行曝光。曝光后，光刻胶会在感光的部分发生物理变化，使其变得溶解或凝固，形成图案。然后通过一系列的化学处理，将曝光后的光刻胶和硅片上不需要的部分去除，露出导线和连线层。这样，在制造过程中就可以实现电路的连接和形成。

黄光制程的重要性在于它能够精确控制电路的形状和线宽，从而确保电子器件的性能和可靠性。通过黄光制程，我们可以制造出更小、更高效、更可靠的电子器件，为我们的生活和工作带来了极大的便利。

当然，除了集成电路制造中的应用，黄光制程还有其他的用途。比如，它可以用于制作显示屏、光电器件、传感器等等，广泛应用于各个领域。

总结一下，黄光制程是一种在电子制造中常用的工艺，通过光刻胶的曝光和化学处理，实现了导线和连线层的形成，确保电子器件的性能和可靠性。它的应用范围非常广泛，不仅可以用于制作集成电路，还可以用于制造显示屏、光电器件等。相信有了黄光制程的支持，我们的电子设备会变得更加亮眼！